[딜사이트 이세연 기자] 삼성전자가 그동안 '셧다운' 상태였던 평택캠퍼스 5공장(P5) 착공에 속도를 내기 위해 전체적인 공사 규모를 1층 줄이는 방향으로 가닥을 잡았다. 아직 P5의 구체적인 용도는 확정하지 않았으나 상당 부분 메모리 반도체 라인으로 구축해 본격적인 HBM 램프업(생산량 확대)에 대비할 것으로 예상된다. 메모리 수요 여부에 따라 일부는 파운드리 라인으로 혼용 구축될 전망이다. 

업계에 따르면 삼성전자는 당초 평택캠퍼스 P5를 총 4층 규모로 지을 계획이었으나, 현재로서는 3층으로 줄이는 방안을 검토하고 있다. 4층짜리 팹을 건설해본 경험이 없는 상황에서 평택캠퍼스 투자 속도도 전반적으로 느려지고 있어 무리하게 4층으로 추진할 필요가 없다고 판단한 것으로 보인다.

반도체 업계 한 관계자는 "당장 오는 10월부터 사전 준비에 돌입해 내년 초 본격적인 착공에 나서겠다는 계획"이라고 말했다. 

삼성전자의 향후 투자 계획에 포함된 여타 현장 공사에 대비하려는 의도도 보인다. 삼성전자는 용인 이동·남사읍에 360조원을 들여 약 778만㎡(약 235만평) 규모의 첨단 시스템반도체 국가산단을 조성하고 있다. 앞선 관계자는 "용인 시스템반도체 국가산업단지도 당장 내년 착공을 앞두고 있어, P5에만 시간을 과도하게 투입하기 어려울 것"이라고 설명했다. 

그동안 삼성전자 평택캠퍼스 내 팹(P1~P4)들은 모두 2층 구조로 준공됐다. 그러다 지난해 정부가 반도체 공장 용적률을 140%로 상향 조정하면서 4층까지 확장 건설할 수 있게 됐다. 이에 삼성전자 역시 P5를 기존 팹보다 2배가량 큰 4층 구조로 계획했다. 통상 팹 한 층에 300m짜리 클린룸이 2개씩 투입되는 것을 고려하면 P5에는 총 8개의 클린룸이 들어가는 셈이다.

하지만 이번에 3층으로 P5 공사 규모를 축소하게 되면 클린룸도 6개로 줄어든다. 이에 기존 공장 중 하나인 3공장(P3)에 들어간 전체 투자비가 약 50조원임을 고려하면 P5에는 약 70조원이 투입될 것으로 예상된다.

P5 착공을 위한 사전 준비 단계는 오는 10월로 예정돼 있다. 현장에서 관련 작업이 일부 진행 중인 것으로 전해진다. 평택캠퍼스 한 관계자는 "현재 P5 부지에서 소수 인원이 칼럼(H빔)을 조금씩 정리하고 있는 것으로 들었다"고 말했다.

칼럼은 건축물의 뼈대로 사용되는 거대한 기둥을 말한다. 지난해 P5가 터닦기 작업만 마치고 '셧다운' 되면서 현장에 수만톤의 칼럼이 야적돼 있는 상황이다. 공사가 장기간 지연될 경우 오염 가능성이 있어, 평택캠퍼스 내에서도 이를 리스크 요인으로 지적해온 것으로 전해진다.

앞선 관계자는 "사전 준비 기간 동안 칼럼을 외부로 반출한 후 해당 부지에서 기초 공사를 진행할 예정인데, 이 작업에 통상 2~3개월이 소요된다"며 "이후 내년 초에 칼럼을 세우는 골조 공사 단계로 넘어가며 본격적인 착공에 들어갈 계획"이라고 말했다.

이어 "삼성물산은 칼럼 설치 기간을 약 25개월로 잡고 있는데, 작업이 시작되면 공사 일정을 맞추기 위해 철야 작업에 돌입할 것"이라고 덧붙였다. 3층 규모의 골조를 모두 세운 뒤 마감하는 방식이 아닌, 1층 골조가 완공되는 대로 마감 공사에 착수하며 동시에 상층부 골조를 세우는 방식이 적용될 전망이다.

한편 P5의 구체적인 용도는 현재로서는 상당 부분이 메모리 반도체 라인, 일부는 파운드리 라인으로 혼용 구축될 것으로 예상된다. 삼성전자는 최근 6세대 10나노급(1c) D램 양산에 대비해 설비 구축에 속도를 내며 관련 장비 발주를 시작한 것으로 알려졌다. 향후 본격적인 HBM 램프업(생산량 확대) 가능성이 제기되는 등 늘어나는 물량에 대응하려는 움직임으로 풀이된다.