엔에스네오텍은 한송네오텍(60%)과 화이버사이언티픽(40%)이 출자해 설립된다. 화이버사이언티픽의 관계사인 화이버로지텍으로부터 차세대 2차전지 분리막 기술 및 노하우 등을 이전받고 2021년 시제품 출시 및 판매를 목표로 중국내 제조 인프라를 구축할 예정이다.

엔에스네오텍의 2차전지 분리막 기술은 기존의 메이저 업체들이 사용하고 있는 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE) 소재의 필름 구조가 아닌 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF)와 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 합성한 부직포 멤브레인(Non-woven Membrane)에 특수코팅기술을 접목한 분리막이다. PP, PE 분리막의 공기투과도(Air Permeability)가 보통 230~270 sec/100ml 인데 비해 엔에스네오텍의 분리막은 135 sec/100ml 에 불과하다. 이온의 이동성은 높고 변형률은 낮아 화재 및 폭발의 위험성이 최소화 될 수 있는 장점을 가지고 있다.

한송네오텍 관계자는 "엔에스네오텍 설립을 통해 차세대 2차전지 분리막 사업을 본격화 했다"며 "내년에는 기존 선두 업체들의 분리막보다 화재 및 폭발에 강하면서도 높은 성능을 발휘하는 차세대 분리막을 양산해 글로벌 시장에 진출할 계획이다"고 말했다.