1일 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 반도체 장비기업 아이에스티이의 올해 상반기 매출은 137억원으로 전년동기대비 27.4% 감소했다. 영업이익과 당기순이익은 모두 적자전환했다. 매출이 줄었지만 판관비 등이 증가한 탓에 영업손실 및 순손실로 이어졌다. 

매출 감소는 주요 고객사의 투자 지연 영향이 컸다는 게 아이에스티이의 설명이다. 아이에스티이 관계자는 "고객사들 투자가 지지부진했고 반도체 장비별 수주 시기가 다르기 때문에 투자 수혜 효과가 적었다"고 밝혔다. 아이에스티이는 SK하이닉스를 비롯해 SK실트론, 삼성전자 등을 주요 고객사로 두고 있다. 

아이에스티이는 올해 2월 기술특례로 코스닥 입성한 반도체 장비 전문기업이다. 반도체 웨이퍼(원판형태의 얇고 평평한 실리콘 재료)를 각 공정 장비 간에 이송하는 밀폐형 운반용기 '풉(FOUP)'을 세정하는 '풉 클리너'를 주력으로 생산한다. 풉 클리너는 외부 오염물질로부터 웨이퍼를 보호하는 역할을 담당하며, 반도체 수율 향상의 핵심 장비로 꼽힌다. 올 상반기 기준 풉 클리너 매출 비중은 64.1%다.

아이에스티이의 상반기 수주잔고는 124억원 수준이다. 다만 주력제품인 풉 클리너 잔고 비중이 20%가 되지 않는다. 상반기 매출 감소와 주력제품의 수주잔고를 감안하면 상장 당시 제시한 올해 실적목표는 달성하기 어려워 보인다. 

아이에스티이의 올해 매출 목표는 706억원이다. 8월 초 SK하이닉스로부터 28억원 규모의 풉 클리너 공급계약을 맺으며 수주 행보를 이어갔으나 올해 목표 달성에 경고등이 켜진 셈이다.

아이에스티이는 하반기 새로운 성장카드로 반전을 꾀한다는 방침이다. 'PECVD(Plasma Enhanced CVD)' 장비 양산으로 모멘텀을 마련한다는 각오다. PECVD는 플라즈마를 이용해 저온에서 박막을 증착하는 기술로, 웨이퍼 열 손상을 최소화하면서도 우수한 박막 품질을 생산하는 데 기여할 수 있다. 반도체 기능과 성능을 결정하는 데 주요한 역할을 하는 핵심 장비 기술로 평가된다. 

아이에스티이는 특히 다양한 박막 중 SiCN(Silicon Carbonitride, 실리콘 카보나이트라이드) 박막 증착에 특화된 기술을 보유하고 있다. SiCN은 차세대 메모리 반도체의 핵심 절연막 소재로 주목받고 있는 물질이다. 회사는 SiCN 공정용 PECVD 장비를 2023년 말 SK하이닉스에 공급했고 지난해 퀄테스트(품질테스트) 완료 후 양산 평가를 진행 중이다. 

당초 올해 6월 양산성 평가를 완료해서 판매 전환하는 것이 목표였으나 다소 연기된 상태다. 아이에스티이는 IR보고서를 통해 연내 PECVD 장비를 양산 예정이라고 밝혔다. 고부가가치의 장비 포트폴리오로 확장해 종합 반도체 장비 회사로 도약하는 전환기에 놓여 있는 셈이다. 

PECVD 장비는 현 주력제품인 풉 클리너보다 고수익 장비로 평가된다. 올해 관련 매출은 적더라도 향후 수익성 개선에 미치는 영향은 상당할 것으로 전망된다. 시장 규모 역시 풉 클리너보다 30배 이상 크다는 평가다. SiCN 박막에 대한 수요는 고성능 컴퓨팅과 AI 칩 시장의 폭발적 성장으로 가속화할 것이란 전망이 나온다.

김경민 한국IR협의회 연구위원은 "아이에스티이 주요 고객사인 SK하이닉스가 차세대 메모리 반도체 개발에서 선도 기업이기 때문에 SK하이닉스와의 공동 개발을 통해 얻은 기술력과 검증 데이터는 향후 다른 글로벌 고객사 진출 시 강력한 레퍼런스가 될 수 있다"고 말했다.

아이에스티이는 지난 22일 SK하이닉스 주최로 PECVD 장비 국산화 성공사례에 대한 성과공유 행사에 참석하며 양산 기대감을 끌어올린 상황이다. 회사 관계자는 "고객사의 최종선택만을 기다리고 있다"며 "빠른 시일 내 성과가 나오길 기대한다"고 밝혔다. 연 매출 목표와 관련해선 "차근차근 밟아 달성하도록 노력하겠다"고 말했다.