[배요한 기자] KDB대우증권은 28일 에스앤에스텍에 대해 반도체 미세화 공정으로 장기 성장 기대된다며 주목해볼 것을 권장했다. 목표주가는 제시하지 않았다.
에스앤에스텍은 2001년에 설립된 국내 유일의 블랭크 마스크 제조 업체이다. 블랭크마스크는 석영 유리기판 위에 금속박막 증착(Sputter)공정을 이용하여 필름을 형성하고 그 위에 감광액을 코팅한 것으로 포토마스크의 핵심 원재료가 된다.
이 회사에서 생산하는 반도체용 블랭크 마스크는 크게 바이너리 블랭크마스크, PSM(Phase Shift Blank Mask) 마스크, 하드 마스크로 구분할 수 있으며 PSM 및 하드마 스크가 Advanced 마스크에 해당된다. PSM 마스크는 65nm급의 고해상도 반도체 패턴을 구현하는데 이용되고 하드마스크는 45nm급 고해상도 패턴 구현에 이용되는 차세대 블랭크 마스크이다.
오탁근 연구원은 “하드마스크는 일본 HOYA 사에서 독점 생산해서 국내 반도체 업체에 공급했으나 에스앤에스텍에서 국내 최초로 개발했다”면서 “올해 초부터 국내 반도체 업체에 공급하기 시작해 점차 공급물량이 증가하고 있다”고 전했다.
이어 “바이너리 블랭크 마스크에 비해 PSM 마스크 및 하드마스크는 공급단가가 5~20배 이상 높 기 때문에 에스앤에스텍에서는 지속적인 연구개발을 통하여 차세대 마스크 개발에 연구역량을 집중했다”면서 “그 결과 2009년에 PSM 마스크를 공급하기 시작하였으며, 하드마스크는 2014년 말 양산테스트를 완료하고 올해부터는 본격적으로 국내 반도체 업체에 제품을 공급하고 있다”고 설명했다.
오 연구원은 “에스앤에스텍의 올해 매출액과 영업이익은 각각 540억원과 118억원을 기록하며 전년 대비 18.2%, 76.1% 증가할 것”으로 추정했다. 이어 “영업이익율은 21.9%을 달성하여 전년 14.7% 대비 높은 마진율 개선이 가능할 것”으로 전망된다.
다만, 그는 "현재 연초 대비 주가 상승율이 220%로 매우 높은 수준이어서 추가적인 주가 상승에 대한 의문이 있다"고 분석했다.
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